納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命

——來(lái)自德國(guó) micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)

核心優(yōu)勢(shì)

? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)（ISO 9001 & 14001）

應(yīng)用領(lǐng)域：

l光子學(xué)（超表面、光柵、AR/VR）

l下一代電子器件（納米線、MEMS）

l生命科學(xué)與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）

明星產(chǎn)品系列

1. UV-NIL 光刻膠

2.

2.

熱壓?。═-NIL）光刻膠

| mr-I 9000M | 熱固性樹(shù)脂，無(wú)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg），耐高溫 260°C，yongjiu光學(xué)透明 | 高溫環(huán)境應(yīng)用（如封裝、光學(xué)透鏡） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸堿/有機(jī)溶劑，超高紫外透過(guò)率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝：結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實(shí)現(xiàn)復(fù)雜金屬納米結(jié)構(gòu)（如 200nm 金屬網(wǎng)格）。

NIL + 深度刻蝕：通過(guò)含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實(shí)現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。